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半导体专用设备MA-60F光刻机日本MIKASA株式会社MIKASA米卡萨



日本MIKASA株式会社对准曝光机：提供技术支持，安装，培训！MA-10B、MA-20、MA-60F、M-1S、M-2LF、日本MIKASA株式会社旋转涂布机：MS-B100、MS-B150、MS-B200、MS-B300、MS-B200（密封）、MS-B300（ 密封）日本MIKASA株式会社显影刻蚀装置：AD-1200AD-3000ED-1200ED-3000



*大电路板尺寸
φ6英寸 显微镜分辨率 使用物镜20×时
1.2μm
*大基板厚度
2㎜
*大蒙版大小
7×7 英寸 对齐
间隙长度测量功能 标准设备
紫外线灯屋
集成器类型
照度
＞18mW/c㎡(at405nm) 操纵器
移动范围 X/Y ± 5mm 微动 1/8mm 1 圈
θ：70° 微动±7°
Z：4mm（气动驱动分钟 1mm/粗动
3mm）
微动 0.16mm
照度均匀性 ＜±5.0％
曝光光源 UV 灯 250W
十字级
移动范围 X/Y ±20mm
曝光波长 宽带（g、h、i 线）
曝光计时器 0~999.9秒定时器设置式
1~9999计数
累计光量计数器式
切换方式 气压 用于掩膜级 0.5MPa
氮气 N2 吹气用 0.5MPa
UV 灯
退化补偿功能 标准设备 真空 掩模和基板吸附用
-0.08MPa
如何联系
软触点
/硬触点 除振台 标准设备
电源 AC100～110V 50/60Hz 20A
对齐范围
双视场显微镜
物镜间隔 18-60mm 外部尺寸
（包括 mm/除振台） 1130W×1650H×800D
重量 360㎏


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