所在位置: 首页 > 公司新闻

DNK大日本科研株式会社;曝光机



DNK大日本科研株式会社;曝光机自创业以来,一贯坚持「****」「客户至上」,努力制造满足客户需求的产品。
其间,承蒙众多客户的悉心指导和惠顾而得以今日坚实的成长。
本公司一直以生产融合了光学・精密机械・电子控制・各软件技术的光机电一体化工程装置及液晶显示屏制造装置为主发展至今。现在,全体员工正为开发面向新一代的高新技术产品而激情高昂。


此外,DNK大日本科研株式会社;曝光机还遵循ISO-9001的规定,进行严格的质量管理。

今后,对所有的产品,DNK大日本科研株式会社;曝光机都将以比现在更进一步的「高品质」、「短交货期」和「低成本」为目标,并以制造可灵活满足客户需求的产品而奋进。

希望得到大家更大的支持和关爱。



商号: 株式会社 大日本科研
(Japan Science Engineering Co., Ltd.)

本社

总部:

1, Kuguso, Terado-cho, Mukou-city, Kyoto 617-0002, Japan

设立: 1967年2月3日
法人代表: 代表取締役社长 冈本浩志
资本金: 5000万日元
结算期: 4月
员工数: 132名
   男115名、女17名 (截止到2025年8月)
事业内容: ・精密机械的设计・制造・销售
・理化学仪器・测量仪器・光学仪器的设计・制造・销售
董事会: 代表取締役社长      冈本浩志
董事           杉原正規
董事           島田崇司
2025年 第8.5H代卷对卷(Roll to Roll)双面曝光机的开发和发货开始
2023年 东工厂厂房内增建东工厂南楼
2021年 Desktop Mask Aligner 的开发以及开始销售
2020年 8英寸晶圆用 新型掩膜对准曝装置(Mask Aligner)的开发以及开始销售
2019年 荣获SCREEN GA2019 Best Supplier Award
2018年 LED LAMP HOUSE搭载曝光机开始销售
2017年 将INDEX Technologies Inc. 吸收兼并
2015年 东京办事处 开设
2014年 薄膜Roll to Roll双面曝光装置的开发

1μm型无掩膜曝光装置的开发
2013年 晶片TITLER转动装置的开发并开始供货
2012年 电感线圈用曝光机的开发以及开始供货
2011年 LLED、LD用Stepper( 投影曝光装置) 的开发

东工厂屋顶上设置太阳能发电系统
2010年 开始研发和供应新型图像处理装置(GA-LITE)

3μm·5μm型无掩膜曝光装置的开发
2009年 荣获京都右京税务署颁发的优良申告法人持续再表彰奖

取得激光修复装置的制造・销售权
2008年 研发MUM曝光装置,荣获经济产业省颁发的关西领跑者大奖

开始研发和供应TOUCH PANEL(触摸屏)用曝光机
2007年 研发三维微细加工(MEMS)用曝光机
2006年 以资本金2亿4千万日元和美商Ball semiconductou Inc.在京都南区合资设立
INDEX Technologies Inc.,开始研发无掩膜曝光机

KES・环境管理体系阶段2登录。
2005年 在京都市伏见区横大路天王后开设横大路工厂
2004年 在东工厂厂区内增设东**工厂(对应大型设备)
2003年 在京都南区久世筑山町445番地2开设久世工厂

开始研发和供应PWB用Roll to Roll曝光机

开始研发和供应LED、LD用曝光机
2002年 开始研发和供应有机EL用封止装置

研发第5代用2轴步进曝光机
2001年 开始研发和供应有机EL用曝光机
2000年 在韩国・台湾设立服务网点
1999年 取得ISO9001认证
1998年 开始研发和供应印刷电路板量产用曝光机

开始研发和供应直立型步进曝光机
1997年 在国内**周期间荣获劳动大臣颁发的进步奖

荣获京都右京税务署颁发的优良申告法人持续再表彰奖

开始研发和供应PDP用曝光机
1996年 开始供应立式大型基板用近接曝光机

在东工厂1F设置适应大型机的无尘车间

开始启用公司内部LAN(局域网)
1994年 开始研发LCD量产用第3期生产线装置
1993年 开始供应基板TITLER

开始供应线幅测量机
1992年 举行创立25周年纪念仪式

荣获京都右京税务署长颁发的优良申告法人表彰奖

正式导入CAD
1991年 在东工厂2F设置无尘车间
1990年 开始供应装配有变形装载台的大型基板用近接曝光机
1989年 开始供应装载有间隙传感器的非接触大型基板用近接曝光机

在京都市南区久世殿城町190番地1新设东工厂

开始供应二维CCD传感器方式自动对位曝光机
1988年 完成间隙传感器

开始供应混合印刷电路板基板用步进曝光机
1987年 举行创立20周年纪念仪式

在国内**周期间荣获京都劳动标准局长颁发的进步奖
1986年 完成TAB系统用直立型・高性能自动信息处理器
1985年 完成二维CCD传感器方式定位装置
1984年 开始供应LCD彩色滤光片用自动对位曝光机

开始供应装载有新方式大型光源的曝光机
1983年 LCD用曝光机的大型化
1982年 举行创立15周年纪念仪式

开始供应LCD用自动对位曝光机

在总部工厂内设置无尘车间

开始供应热感应打印头用自动对位曝光机
1981年 在京都市西京区大原野石见町28番地1开设大原野工厂

完成线形传感器方式自动对位装置
1980年 着手研发大型掩膜自动制图机
1979年 在总部厂内增设南馆

在总部工厂内导入办公用电脑,着手推进办公自动化
1977年 开始供应热感应打印头用扫描曝光机

开始供应LCD用曝光机

开始供应测试信息处理器
1976年 完成新方式光源(椭圆镜-复眼透镜方式)
1975年 开始供应TAB曝光机
1974年 将总部及工厂搬迁到京都府向日市寺戸町久久相1番地

开始供应真空密着式曝光机
1973年 开始供应新型精密缩小相机・自动接触打印机
1971年 开始供应热感应打印头试制用对位曝光机

资本金增加到5,000万日元
1970年 着手研发半导体用掩膜自动制图机等

资本金增加到4,000万日元
1969年 开始供应四筒式全自动缩小多面洗印照相机
1968年 开始供应半导体用曝光机械・掩膜制作用机械・二维比较测量仪器

资本金增加到2,500万日元
1967年 以250万日元的资本金创办了株式会社大日本科研,总部设立在京都市上京区五辻通智恵光院西入
实验・研究用曝光装置
Ø200mm 和Ø300mm兼容曝光机
无掩膜曝光装置
MEMS用曝光装置
胶片用曝光装置
FPD用曝光装置
其他量产用曝光装置
基板用贴合装置
Desktop Mask Aligner