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日本MIKASA米卡萨株式会社：匀胶机，显影、涂布机、旋涂机、光刻机
日本MIKASA米卡萨株式会社：匀胶机，显影、涂布机、旋涂机、光刻机提供技术支持！
日本MIKASA米卡萨株式会社 日本MIKASA株式会社中国代理: MIKASA光刻机.旋轉塗鈽機，真空泵日本MIKASA株式会社中国代理: MIKASA光刻机.旋轉塗怖機，真空泵日本MIKASA株式会社中国代理: MIKASA光刻机.旋轉塗鈽機，真空泵 半导体制造工序中的Mikasa半导体设备

晶园、洗涤**晶园表面的脏污及

各种金属离子、成膜

在高温扩散炉中，形成、表面氧化膜

电路图案设计、运用CAD制作布局、布线

设计图。制作光掩膜

将电路图案冲印到中间掩、模上(原版照片)

光刻胶涂布、将光刻胶(感光材料)涂抹到晶

圆表面，形成厚度均一的薄膜。

旋转涂膜仪(P4~P11) 将光掩膜与晶园重合，复制电路

图案。

光刻机(P13~P15)

可选组件

显影、去除曝光部位(正胶)的光刻胶。

显影装置(P17. 18)、蚀刻

通过腐蚀氧化膜来蚀刻电路。

蚀刻装置(P19)

离子注入/溅射

向晶园注入离子(混杂物)
滴液装置可选组件 吸盘

●MS-B100/ MS-B150

●MS-B200

●MS-B300

●MS-B200 (密闭型)

●MS-B300 (密闭型)

日本MIKASA光刻机
MA-10

●MA-20

●MA-60F

●M-2LF

●M-1S

日本MIKASA曝光，将光掩膜与晶园重合，复制电路图案。
日本MIKASA显影、蚀刻装置DeveloperEtching
日本MIKASA旋转涂布机MS-A150/MS-B150现货现货旋转涂膜仪

去除曝光部位(正胶)的光刻胶。
●AD-1200

●AD-3000

●PD-1000

日本MIKASA蚀刻装置
蚀刻装置

●ED-1200

●ED-3000

日本Mikasa为半导体制造工序提供支持的Mikasa备齐光刻胶涂布、曝光、显影、蚀刻等半导体制造前段工序所需要的装置后，提供一站式服务。另外，为旋转涂膜仪的所有机型准备了替代用机，可在发生故障时尽早应对，且在销售后提供快捷周到的售后服务。针对研究过程中所发生的一系列问题，也可在现场提出解决建议。与客户共同探讨在哪个工序出现了问题、应如何改进等等，从而得出解决建议。Mikasa 作为一个可在半导体方面进行共同商谈的咨询顾问不仅销售设备，而是为客户半导体制造的整体工艺流程。将光刻胶（感光材料）涂抹到晶圆表面，形成厚度均一的薄膜。



日本Mikasa为半导体制造工序提供支持的Mikasa备齐光刻胶涂布、曝光、显影、蚀刻等半导体制造前段工序所需要的装置后，晶圆涂抹提供一站式服务。

日本Mikasa 半导体用设备 旋涂机

MS-B100

MS-B150

MS-B200

MS-B300

MS-B200

密閉型MS-B300

密閉型MA-20

MA-10B

MA-60F

M-2LF

M-1S

AD-1200

AD-3000

ED-1200
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