大日本科研(DNK)测量仪器、光学仪器
产品型号:MA-4301M
产品品牌:DNK大日本科研
产品介绍:

大日本科研(DNK)是一家日本的科技公司,其正式名称为株式会社大日本科研(Japan Science Engineering Co., Ltd.)。以下是关于该公司的详细介绍:

详细介绍

大日本科研(DNK)是一家日本的科技公司,其正式名称为株式会社大日本科研(Japan Science Engineering Co., Ltd.)。以下是关于该公司的详细介绍:

  • 基本信息:公司成立于 1967 年 2 月 3 日,总部位于日本京都市右京区寺戸町洼 1 番地,法人代表为代表取締役社长冈本浩志,资本金为 5000 万日元,截止到 2025 年 6 月,公司员工数为 133 名。
  • 业务范围:主要从事精密机械以及理化学仪器、测量仪器、光学仪器的设计、制造和销售。此外,公司还专注于光机电一体化设备和液晶面板制造设备,在超净环境设备,尤其是清洗设备领域表现**,占据该市场约 50% 的份额。
  • 公司架构:董事会成员包括代表取締役社长冈本浩志、董事杉原正規和董事島田崇司。
主要特长

  • 利用本公司**的高速图像处理技术, 实现了Wafer与掩膜的高精度对位。
  • 装载机侧和卸载机侧*多可设置两个篮具(选购项)。
  • 备有冷却机构,可进行基板台与掩膜的温度管理(选购项)。
  • 搭载本公司**的镜面光学系统爆光灯房(LAMP HOUSE)。从而实现了照射面内的均匀性以及高照度。
  • 搭载非接触预对位系统(PREALIGNER)。从而实现了高精度进给且保证基板不受任何损伤。
  • 搭载有自动掩膜更换机。并可支持掩膜存放库。
Ø200mm 兼容曝光机

主要规格

  MA-4301M
Wafer尺寸 材料 Si,Glass
尺寸 Φ6″ x t0.625 mm(6″ = Φ150 mm) +/- 0.2 mm
Φ8″ x t0.725 mm(8″ = Φ200 mm) +/- 0.2 mm
节拍时间 Proximity exposure:19 s/wafer
(One parallelism compensation per lot)
对位精度 自动对位:+/- 1 μm
(Peak search)
间隙 1 to 200 μm Servo motor
Setup resolution:1 μm
曝光方式 Soft contact exposure
Hard contact exposure
Proximity exposure
尺寸・重量 本体尺寸:W 1800 x D 1650 x H 2015 mm
总重量(including lamp house):1400 kg