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DNK大日本科研
DNK大日本科研小批量生产直描曝光
产品型号:MX-1201E
产品品牌:DNK大日本科研
产品介绍:
大日本科研(DNK)是一家日本的科技公司,其正式名称为株式会社大日本科研(Japan Science Engineering Co., Ltd.)。以下是关于该公司的详细介绍:
详细介绍
大日本科研(DNK)是一家日本的科技公司,其正式名称为株式会社大日本科研(Japan Science Engineering Co., Ltd.)。以下是关于该公司的详细介绍:
基本信息
:公司成立于 1967 年 2 月 3 日,总部位于日本京都市右京区寺戸町洼 1 番地,法人代表为代表取締役社长冈本浩志,资本金为 5000 万日元,截止到 2025 年 6 月,公司员工数为 133 名。
业务范围
:主要从事精密机械以及理化学仪器、测量仪器、光学仪器的设计、制造和销售。此外,公司还专注于光机电一体化设备和液晶面板制造设备,在超净环境设备,尤其是清洗设备领域表现**,占据该市场约 50% 的份额。
公司架构
:董事会成员包括代表取締役社长冈本浩志、董事杉原正規和董事島田崇司。
利用独自的高速描画「Point Array方式」技术直接描画图形的装置。
主要特长
能够用于研究开发、试作、小批量生产等的直描曝光。
能够对应半导体、电子零件、屏幕遮罩、金属面具、**PCB、高密度封装件、MEMS、FPD等的曝光。
由于在光刻工艺中不需要掩膜,因而可以*大限度地降低开发成本和缩短市场供应时间。
此外,还可以根据客户需求,提供相应的装置构造。
无掩膜曝光技术
主要规格
型式
MX-1201
MX-1201E
MX-1205
单引擎
双引擎
*小线幅 (※1)
[μm]
5
3
2
1
数据分辨率
[μm]
0.488
0.25
0.1
0.05
*大基板尺寸
[mm]
200 x 200
200 x 200
100 x 100
有效曝光范围
[mm]
200 x 200
200 x 200
100 x 100
激光主波长
[nm]
405
375
405 + 375
375
405
375
375
曝光扫描速度
[mm/s]
43.94
22.5
9
4.5
节拍时间
[s,min]
180 [s]
145 [s]
320 [s]
16 [min]
27 [min]
*大曝光量
[mJ/c㎡]
245
70
245 + 70
70
460
135
50
100
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