DNK大日本科研小批量生产直描曝光
产品型号:MX-1201E
产品品牌:DNK大日本科研
产品介绍:

大日本科研(DNK)是一家日本的科技公司,其正式名称为株式会社大日本科研(Japan Science Engineering Co., Ltd.)。以下是关于该公司的详细介绍:

详细介绍

大日本科研(DNK)是一家日本的科技公司,其正式名称为株式会社大日本科研(Japan Science Engineering Co., Ltd.)。以下是关于该公司的详细介绍:

  • 基本信息:公司成立于 1967 年 2 月 3 日,总部位于日本京都市右京区寺戸町洼 1 番地,法人代表为代表取締役社长冈本浩志,资本金为 5000 万日元,截止到 2025 年 6 月,公司员工数为 133 名。
  • 业务范围:主要从事精密机械以及理化学仪器、测量仪器、光学仪器的设计、制造和销售。此外,公司还专注于光机电一体化设备和液晶面板制造设备,在超净环境设备,尤其是清洗设备领域表现**,占据该市场约 50% 的份额。
  • 公司架构:董事会成员包括代表取締役社长冈本浩志、董事杉原正規和董事島田崇司。

利用独自的高速描画「Point Array方式」技术直接描画图形的装置。

主要特长

  • 能够用于研究开发、试作、小批量生产等的直描曝光。
  • 能够对应半导体、电子零件、屏幕遮罩、金属面具、**PCB、高密度封装件、MEMS、FPD等的曝光。
  • 由于在光刻工艺中不需要掩膜,因而可以*大限度地降低开发成本和缩短市场供应时间。
  • 此外,还可以根据客户需求,提供相应的装置构造。
 无掩膜曝光技术
无掩膜曝光装置

主要规格

型式 MX-1201 MX-1201E MX-1205
单引擎 双引擎
*小线幅 (※1) [μm] 5 3 2 1
数据分辨率 [μm] 0.488 0.25 0.1 0.05
*大基板尺寸 [mm] 200 x 200 200 x 200 100 x 100
有效曝光范围 [mm] 200 x 200 200 x 200 100 x 100
激光主波长 [nm] 405 375 405 + 375 375 405 375 375
曝光扫描速度 [mm/s] 43.94 22.5 9 4.5
节拍时间 [s,min] 180 [s] 145 [s] 320 [s] 16 [min] 27 [min]
*大曝光量 [mJ/c㎡] 245 70 245 + 70 70 460 135 50 100