大日本科研（DNK）是一家日本的科技公司，其正式名称为株式会社大日本科研（Japan Science Engineering Co., Ltd.）。以下是关于该公司的详细介绍：

• 基本信息：公司成立于 1967 年 2 月 3 日，总部位于日本京都市右京区寺戸町洼 1 番地，法人代表为代表取締役社长冈本浩志，资本金为 5000 万日元，截止到 2025 年 6 月，公司员工数为 133 名。
• 业务范围：主要从事精密机械以及理化学仪器、测量仪器、光学仪器的设计、制造和销售。此外，公司还专注于光机电一体化设备和液晶面板制造设备，在超净环境设备，尤其是清洗设备领域表现**，占据该市场约 50% 的份额。
• 公司架构：董事会成员包括代表取締役社长冈本浩志、董事杉原正規和董事島田崇司。

通过掩膜与基板的垂直放置,来减少翘曲的直立型近接曝光机。对应水平搬送型前后处理装置的联机。

主要特长

• 直立配置掩膜台/基板台。不需补正由掩膜/掩膜台/基板台的自身重量而造成的弯曲变形,构造简单，安定性高。
• 采用新型光学系统,使影响图形转印精度的倾斜角降低至过去的一半以下(与本公司装置相比),可实现更高精度的图形转印。
• 完全分离本体与光源部。光源的热量传递不到本体,改善了本体部的热量分布水准。
• 为了防止因掩膜及玻璃基板的温度差造成的伸缩变形,可选择基板台温度控制系统及掩膜冷却系统。(选购项)
• *大基板尺寸为1,200mm×1,400mm。通过独自的光学系统实现了均匀的一次性曝光。
• 能够装载存放5张掩膜的掩膜存放库

主要规格