其核心优势在于高精度测量、多层镀层分析能力及工业场景适配性。
一、旗舰机型GCT-311
核心技术:采用±0.1%稳定性的高精度恒流源,支持四层镀层(含扩散层)逐层分析,分辨率达0.001μm(1nm)。
特殊功能:具备非破坏式校准功能,可制作标准板用于校准其他测厚仪,并支持航空航天多层镍镀层的电位差分析(STEP测试)。
测量范围:0.006–300μm,适用于科研级复杂镀层体系检测。
二、工业优化机型CT-6
快速检测:通过快速电解算法将单次测量时间压缩至30秒内,适配半导体薄膜(如SiO₂、Si₃N₄)的特殊电解液。
功能平衡:精度保持±1%,支持两层镀层测量,专为产线快速检测设计。
扩展能力:配备线材测量台,可检测圆形、棒形等异形工件镀层。
三、经济实用机型CT-3
基础性能:保留0.001μm分辨率和±1%精度,采用机械式刻度盘调节,操作简单直接。
环境适应性:IP54防尘等级,支持三层镀层(含扩散层)测量,擅长超薄层(<1μm)与厚镀层(≤300μm)检测。
配件兼容:标配三种垫片(3.4φ/2.5φ/1.8φ),覆盖多样化测量需求。
四、进阶机型CT-4
多层分析:*多可设置5层测量条件,支持纯锡层与合金锡层的分别检测。
智能交互:配备大屏幕显示及自动电解液类型识别功能,内置五种统计处理方法。
测量范围:0.006–300μm,电解速率分三档(0.125μm/s至0.00125μm/s)以适应不同精度需求。
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