Otsuka大塚Otsuka大塚 分光干涉式晶圆膜厚仪 SF-3 即时检测WAFER基板于研磨制程中的膜厚
玻璃基板(强酸环境中)于减薄制程中的厚度变化
产品特色
● 非接触式、非破坏性光学式膜厚检测 ● 采用分光干涉法实现高度检测再现性 ● 可进行高速的即时研磨检测 ● 可穿越保护膜、观景窗等中间层的检测 ● 可对应长工作距离、且容易安裝于产线或者设备中 ● 体积小、省空間、设备安装简易 ● 可对应线上检测的外部信号触发需求 ● 采用*适合膜厚检测的独自解析演算法。(已取得**) ● 可自动进行膜厚分布制图(选配项目)
规格式样
SF-3
膜厚测量范围
0.1 μm ~ 1600μm※1
膜厚精度
±0.1% 以下
重复精度
0.001% 以下
测量时间
10msec 以下
测量光源
半导体光源
测量口径
φ27μm※2
WD
3 mm ~ 200 mm
※1 随光谱仪种类不同,厚度测量范围不同 ※2 *小φ6μm