OTSUKA大塚无损非接触膜厚仪FE-300薄膜厚度计，通过操作简单的高精度光学干涉测量实现薄膜厚度测量。

• 支持从薄膜到厚膜的各种膜厚 使用反射光谱的薄膜厚度分析 实现非接触、非破坏的***测量，同时紧凑且价格低廉

• 简单的条件设置和测量操作！任何人都可以轻松测量薄膜厚度 可以通过峰谷法、频率分析法、非线性***小二乘法、优化法等进行多种薄膜厚度测量。

• 通过非线性***小二乘膜厚分析算法可以进行光学常数分析（n：折射率，k：消光计数）。

测量项目 反射率测量 膜厚分析（10层） 光学常数分析（n：折射率，k：消光计数） 测量对象

• 功能膜、塑料透明导电膜（ITO、银纳米线）、相位差膜、偏光膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合剂、粘合剂、保护膜、硬涂层、防指纹， ETC。

• 半导体化合物半导体、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、蓝宝石等

• 表面处理 DLC涂层、防锈剂、防雾剂等

• 光学材料 滤光片、AR涂层等

• FPD LCD（CF、ITO、LC、PI）、OLED（有机膜、灌封胶）等

• 其他硬盘驱动器、磁带、建筑材料等。 测量原理

大冢电子使用光学干涉仪和我们自己的***分光光度计，实现了非接触、无损、高速和***的薄膜厚度测量。光学干涉法是一种利用OTSUKA大塚FE-300分光光度计的光学系统获得的反射率来确定光学膜厚的方法。以涂在金属基材上的薄膜为例，如图1所示，从目标样品上方入射的光被薄膜（R1）表面反射。此外，通过薄膜的光在基板（金属）和薄膜界面（R2）处反射。测量此时由于光程差引起的相移引起的光学干涉现象，并根据得到的反射光谱和折射率计算膜厚的方法称为光学干涉法。分析方法有四种：峰谷法、频率分析法、非线性***小二乘法和优化法。