OTSUKA大塚 超快光谱干涉仪测厚仪SF-3/800
即时检测WAFER基板于研磨制程中的膜厚

• 薄膜厚度测量所需的功能集成在头部部分
• 通过显微光谱法进行高精度**反射率测量（多层膜厚、光学常数）
• 每点 1 秒内高速测量
• 在显微镜下实现宽测量波长范围的光学系统（紫外~近红外）
• 带区域传感器的**机制
• 简单的分析向导，即使初次使用也能进行光学常数分析
• 宏功能可自定义测量序列
• 可以分析复杂的光学常数（多点分析方法）
• 兼容300mm载物台
• 支持各种自定义

可以根据样品的形状和部分轻松定制测量序列