Tokyo Keiso 东京计装密封质量流量控制器 MODEL 5100 SERIES‌ 是一款专为‌高真空、半导体及高洁净度要求场合‌设计的高性能质量流量控制器，采用‌金属密封结构与内抛光流道‌，具备极低泄漏率和抗污染能力，适用于对工艺气体控制精度与稳定性要求严苛的工业场景。

核心技术特点：

• ‌超高密封性‌：采用‌金属密封（Metal Seal）结构‌，泄漏率低至 ‌1×10⁻¹¹ Pa·m³/s 以下‌，有效防止外部污染侵入，确保系统高真空环境稳定。
• ‌超洁净流路设计‌：内部流道经‌电解抛光处理（Ra ≤ 0.1 μm）‌，显著降低颗粒脱落与二次污染风险，适用于高纯气体或腐蚀性介质传输。
• ‌高精度控制性能‌：测量精度达 ‌±1% F.S.‌，可稳定控制微小流量至 ‌1 sccm（N₂当量）‌，满足半导体工艺中对微量气体的精准调控需求。
• ‌热式质量流量测量原理‌：基于热扩散原理直接测量气体质量流量，无需温度与压力补偿，响应速度快，稳定性高。
• ‌宽介质兼容性‌：支持多种气体（如N₂、Air、H₂、He、Ar、O₂、CO₂、CH₄等）通过气体转换功能适配，用户可自定义非标气体参数。
• ‌电气接口标准化‌：配备 ‌DB9 接口‌，提供 ‌0–5 V 模拟信号输入/输出‌，供电为 ‌±15 VDC（±5%）‌，便于与PLC或控制系统集成。

• ‌耐压与连接规格‌：工作压力*高达 ‌1.0 MPa‌，管路连接标配 ‌1/4" VCR 或 UJR 接口‌，实现无焊接、低死体积的高密封连接。
• Tokyo Keiso 东京计装密封质量流量控制器
  

• 典型应用领域：

  • ‌半导体制造‌：用于CVD、PVD、刻蚀、离子注入等工艺中的高纯工艺气体（如SiH₄、Cl₂、BF₃）**供给。
  • ‌平板显示（FPD）与光伏产业‌：在成膜工艺中控制反应气体流量，提升膜层均匀性与良率。
  • ‌真空镀膜与科研实验装置‌：适用于需要长期维持高真空环境的气体控制系统。
  • ‌生物医药‌：用于洁净室环境中惰性气体保护或反应气体供给，确保无污染。

  安装与使用建议：

  • 建议在‌进气端加装过滤器与油水分离器‌，确保气体干燥洁净（湿度＜90% RH，无结露，颗粒物＜20 μm）。
  • 安装前需对管路进行‌整体吹扫‌，避免杂质进入控制器内部堵塞传感器。
  • 进行零点校准时，必须确认‌进出口无流量、无压力‌状态下操作，防止误差。
  • 禁止使用肥皂水检测泄漏时喷洒在仪表本体或电气接口上，**接头部位。