日本大塚电子 Otsuka RETS‑100nx（相位差 / 延迟测量系统）

Otsuka CR‑7000 系列（彩色滤光片 RGB 正胶）

用途：LCD/OLED 彩色滤光片（CF）红 / 绿 / 蓝三色像素层，面板厂主力型号

类型：正型彩色光刻胶（Positive Tone）

光源：G 线（436 nm）/i 线（365 nm）

膜厚：标准 1.5–2.5 μm（可按转速调整）

状态：已停产（EOL），市面只有库存 / 二手；原厂替代为 CR‑8000 系列

一、型号对应（CR‑7000）

• CR‑7010：Red 红色（CF 红像素）
• CR‑7020：Green 绿色（CF 绿像素，用量*大）
• CR‑7030：Blue 蓝色（CF 蓝像素）

二、核心参数（每色通用，典型值）

• 固含量：22–25 wt%
• 粘度（25℃）：18–22 cP
• 溶剂体系：PGMEA（主流）+ 少量高沸点助剂
• 感光波长：436 nm（G 线）主感光，365 nm（i 线）可用
• 灵敏度：80–120 mJ/cm²（G 线，实机）
• 对比度：≥2.5
• 显影液：0.05–0.1 N TMAH（氢氧化四甲铵）
• 耐热性：≥230℃（后烘 1h，无明显变色）
• 粘附性：玻璃 / ITO / 氮化硅良好
• 颗粒：≤0.5 μm 颗粒＜5 个 /mL（电子级）

三、标准工艺条件（Spin → Bake → Exposure → Develop → Post Bake）

1. 涂胶（Spin Coating）
   • 转速：3000–5000 rpm → 膜厚 1.5–2.5 μm
   • 环境：洁净室 Class 1000，温度 23±1℃，湿度 45±5%
2. 前烘（Soft Bake）
   • 温度：95–105℃
   • 时间：60–90 s（热板）
   • 目的：去溶剂、提升附着力
3. 曝光（Exposure）
   • 光源：G 线（436 nm）光刻机
   • 能量：100–150 mJ/cm²（实际依机台微调）
   • 光罩：CF 彩色像素掩膜
4. 显影（Development）
   • 液：0.05–0.1 N TMAH
   • 方式：喷淋 /puddle
   • 时间：40–60 s
   • 冲洗：DIW 30 s → 吹干
5. 后烘（Post Bake）
   • 温度：200–220℃
   • 时间：30–60 min
   • 目的：固化、提升耐热 / 耐化性

四、CR‑7000 与 CR‑8000 差异（为什么 7000 停了）

• CR‑7000（老款）：2000s 设计，高泄漏、低耐热、分辨率 5 μm，现已 EOL
• CR‑8000（替代）：低泄漏、高耐热（≥250℃）、分辨率 3 μm，适配高分辨率屏