Lasertec是日本半导体检测设备龙头，1960 年创立，总部位于横滨，东证上市（6920）。核心产品为EUV 掩模检查机（如 ACTIS A300）、晶圆检测设备、FPD 掩模检查机及激光显微镜

一、定位与背景

型号：ACTIS A300 系列（前身是 ACTIS A150）

厂商：Lasertec（日本），半导体掩模 / 晶圆检测设备龙头

发布：2023-11-24

用途：EUV 掩模（Reticle）图案缺陷检查，覆盖现有 EUV（0.33 NA）+ 下一代 High NA EUV（0.55 NA）

二、核心特点

双模式兼容

支持 **0.33 NA EUV（当前量产）** 与 **0.55 NA High NA EUV（2nm/1.4nm）** 掩模检查

适配 High NA 的非对称光学（Anamorphic），XY 分辨率不同

新一代光学 + 光源

自研高亮度 EUV 等离子光源 URASHIMA（2023 年 10 月发布）

全新光学设计，对比度 / 信噪比显著提升

相比 A150：缺陷检出灵敏度更高、吞吐量更大

关键能力

检测对象：EUV 掩模（含 ** 带保护膜（Pellicle）** 的掩模）

缺陷类型：图案缺损、凸起、微粒、相位 / 反射率异常等转写致命缺陷

应用场景：

EUV 掩模厂：出货前终检

晶圆厂：收货检验 + 定期维护检查

三、主要规格（公开摘要）

检查波长：EUV（13.5 nm）

对应光刻：0.33 NA EUV / 0.55 NA High NA EUV

光源：URASHIMA 高亮度 EUV 等离子光源

检测灵敏度：≤10 nm 级缺陷（High NA 模式）

掩模尺寸：标准 EUV 掩模（约 152×152 mm）

Pellicle 兼容：支持带 / 不带保护膜的掩模

吞吐量：较 A150 提升约 30%+（官方口径）
Lasertec是日本半导体检测设备龙头，1960 年创立，总部位于横滨，东证上市（6920）。核心产品为EUV 掩模检查机（如 ACTIS A300）、晶圆检测设备、FPD 掩模检查机及激光显微镜


一、定位与背景
型号：ACTIS A300 系列（前身是 ACTIS A150）
厂商：Lasertec（日本），半导体掩模 / 晶圆检测设备龙头
发布：2023-11-24
用途：EUV 掩模（Reticle）图案缺陷检查，覆盖现有 EUV（0.33 NA）+ 下一代 High NA EUV（0.55 NA）
二、核心特点
双模式兼容
支持 **0.33 NA EUV（当前量产）** 与 **0.55 NA High NA EUV（2nm/1.4nm）** 掩模检查
适配 High NA 的非对称光学（Anamorphic），XY 分辨率不同
新一代光学 + 光源
自研高亮度 EUV 等离子光源 URASHIMA（2023 年 10 月发布）
全新光学设计，对比度 / 信噪比显著提升
相比 A150：缺陷检出灵敏度更高、吞吐量更大
关键能力
检测对象：EUV 掩模（含 ** 带保护膜（Pellicle）** 的掩模）
缺陷类型：图案缺损、凸起、微粒、相位 / 反射率异常等转写致命缺陷
应用场景：
EUV 掩模厂：出货前终检
晶圆厂：收货检验 + 定期维护检查
三、主要规格（公开摘要）
检查波长：EUV（13.5 nm）
对应光刻：0.33 NA EUV / 0.55 NA High NA EUV
光源：URASHIMA 高亮度 EUV 等离子光源
检测灵敏度：≤10 nm 级缺陷（High NA 模式）
掩模尺寸：标准 EUV 掩模（约 152×152 mm）
Pellicle 兼容：支持带 / 不带保护膜的掩模
吞吐量：较 A150 提升约 30%+（官方口径）