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Lasertec徕泰半导体掩模缺陷检测
产品型号：GALOIS211
产品品牌：Lasertec徕泰
产品介绍：

Lasertec徕泰是日本半导体检测设备龙头，1960 年创立，总部位于横滨，东证上市（6920）。核心产品为EUV 掩模检查机（如 ACTIS A300）、晶圆检测设备、FPD 掩模检查机及激光显微镜
详细介绍


Lasertec是日本半导体检测设备龙头，1960 年创立，总部位于横滨，东证上市（6920）。核心产品为EUV 掩模检查机（如 ACTIS A300）、晶圆检测设备、FPD 掩模检查机及激光显微镜


1. 光学与检测

  • 光源：激光（共聚焦 + 微分干涉）
  • 检测对象：6 英寸 GaN 晶圆（衬底 / 外延层）
  • 检测速度：6 分钟 / 片（6 英寸）
  • 分辨率：亚微米级，可识别浅划痕、位错、晶体缺陷
  • 检测模式：全自动缺陷扫描、高倍复查、自动分类 / 标记

2. 关键技术

  • 共聚焦光学：抑制晶圆背面噪声，适配透明 / 半透明晶圆
  • 微分干涉（DIC）：高灵敏度捕捉浅划痕、微观凹凸与晶体缺陷
  • 波长优化：适配 GaN-on-SiC、GaN-on-Si 等异质结构，不受薄膜干涉影响
  • 抗表面形貌干扰：**图像处理，无视 GaN 表面微观起伏

3. 规格与环境

  • 尺寸：3,052mm（深）×3,250mm（宽）×1,990mm（高）
  • 环境：洁净室（Class 1000），温湿度受控
  • 软件：缺陷 Mapping、自动分类、数据追溯、复查联动

二、核心优势


  1. 量产级效率：6 分钟 / 片，适配产线全检 / 抽检。
  2. 缺陷全覆盖：衬底 / 外延层、表面 / 亚表面、微观 / 宏观缺陷通吃。
  3. 异质结构适配：SiC、Si、蓝宝石等基底 GaN 均可检测。
  4. 良率管控闭环：检测→分类→标记→分析→工艺优化。