型号:SUN‑11(通用耐磨级)
材质:高纯 Si₃N₄(氮化硅),纯度≥90%,低氧、低金属杂质
定位:SUN 系列主力通用款,主打高韧性、抗冲击、超耐磨,适配高硬度物料与高温 / 高负荷工况
对比:SUN‑11(通用 / 高韧) vs SUN‑15(精密 / 低耗)
Si₃N₄:≥90%(α‑Si₃N₄ 为主,低氧<1.0 wt%)
杂质:
Fe:<10 ppm(极低铁,不染色、不催化)
Al/Ca/Mg:<50 ppm
重金属:<1 ppm
晶界相:稀土氧化物烧结助剂,耐高温、耐侵蚀
核心亮点:高硬度 + 高韧性 + 轻量化 + 耐高温 + 超低磨耗五位一体,解决高硬度物料研磨易破碎、易污染、高能耗痛点。
标准(通用):φ3/5/8/10/15/20/25 mm
定制(微珠):φ0.3/0.5/1 mm(砂磨机专用)
公差:φ≤1mm ±0.02mm;φ>1mm ±0.05mm
外观:深灰 / 灰黑色、致密无气孔、表面光滑、无杂质点
原料:日本高纯 α‑Si₃N₄ 粉体(低氧、低铁)
成型:干压 + 冷等静压(CIP),密度均匀
烧结:1,750–1,850℃ 氮气气氛,形成柱状 β‑Si₃N₄ 自增韧结构
后处理:精密研磨 + 超声波清洗 + 无尘包装,表面洁净、无游离微粒
超耐磨・长寿命:磨耗≤0.10ppm/h,比氧化锆低 75%、比氧化铝低 95%;连续使用≥20,000 小时(2.3 年免补充)。
高韧性・抗破碎:断裂韧性 5.5MPa・m⁰・⁵,抗冲击强,研磨 SiC/AlN 等高硬物料不碎球。
轻量化・节能:密度 3.2g/cm³,比氧化锆轻 47%,磨机节能 30–40%,降低设备负载与磨损。
耐高温・抗热震:1200℃稳定,ΔT≥600℃不开裂,适配高温研磨、烧结辅助、热喷涂粉体处理。
低污染・高纯适配:Fe<10ppm,几乎无金属析出;耐酸碱 / 有机溶剂,适配锂电正极、MLCC、半导体、荧光粉等高纯场景。
新能源锂电:NCM/LFP 正极、硅碳负极、导电剂(高硬度 + 低金属污染 + 节能)
半导体 / 电子:SiC/AlN 粉体、MLCC 钛酸钡、介电陶瓷、CMP 抛光液(高纯 + 低污染 + 纳米分散)
优良陶瓷:氮化硅 / 氧化铝 / 氧化锆粉体、陶瓷 3D 打印原料、烧结助剂(高硬研磨 + 高温稳定)
高温 / 特种材料:荧光粉、稀土材料、光学玻璃、高温颜料、催化剂(耐高温 + 保性能 + 低杂质)
工业大吨位:矿粉、涂料、油墨、农药、食品添加剂(节能 + 长寿 + 低维护)