应用场景:半导体 FEOL/BEOL 湿法(清洗、蚀刻、光刻),尤其低浓度功能水、热磷酸等监测。
监测对象:低浓度 NH₃、SC-1、热磷酸等,ppm 级浓度变化实时测量。
核心价值:中紫外光谱、非接触光纤传输、多参数兼容,保障低浓度药液稳定供应与制程良率。
测量原理:中紫外吸收光谱(LED 光源),检测传统波长难以测量的成分。
检测方式:光纤分体式设计,光源 / 主机与传感头分离,传感头夹装管道外壁,非接触药液。
浓度计算:温度补偿算法,抗温度干扰,实时输出浓度值。
中紫外高精度,ppm 级低浓度:中紫外波长测量,解决传统机型低浓度精度不足问题,适配ppb/ppm 级药液监控。
光纤分体,自由布局:光源与传感头分离,主机远离高温 / 腐蚀环境,适配设备紧凑空间,安装灵活。
多药液兼容,一机多用:单台*多测量6 种化学品,覆盖低浓度湿法主流药液,降低设备成本。
非接触无污染,**可靠:传感头仅夹装管道外壁,不接触药液,无析出、无泄漏风险,保障高纯药液品质。
低维护,长寿命:LED 光源稳定,长期无需更换,维护成本低。
半导体清洗:低浓度 SC-1/SC-2、NH₃等清洗液浓度实时监控。
蚀刻制程:热磷酸浓度监测(铝蚀刻等工艺)。
功能水管理:半导体厂低浓度功能水(如臭氧水、双氧水)浓度控制。