气体分流,小部分流经传感器(热毛细管);
传感器检测温差信号,换算为质量流量;
控制电路对比设定值与反馈值,驱动压电阀调节开度;
实现不受温压波动影响的精准流量控制。
流量范围:10 SCCM ~ 1000 SLM(N₂当量)。
精度:±1.0% 设定点(≥5% 流量)。
响应时间:≤1 秒(T98)。
通信:模拟 / 数字、EtherCAT、DeviceNet、PROFIBUS 等。
特点:多气体 / 多量程,紧凑型设计,适配多数工业场景。
核心优势:内置压力传感器,实时压力补偿,抗上下游压力波动。
精度:±1.0% 设定点,重复性≤±0.15% 设定点。
材质:SUS316L + 金属隔膜,超洁净、低泄漏。
应用:半导体制程、真空镀膜、多腔室气体系统。
D700WR(宽量程压力不敏感):0.1–100% F.S. 控制,压力突变 70kPa/s 时流量偏差<0.1% S.P.。
D700UF(微流量型):*小流量 0.025 SCCM,分辨率 0.001 SCCM,适合微量气体控制。
特点:CIP 自清洁、MEMS 传感芯片、温控恒流源,稳定性与寿命优异。
流量范围:大流量(*高可达数百 SLM)。
特点:自动关阀(断电保护)、高速应答、性价比高,适配实验与一般工业场景。
高精度与稳定性:直接测质量流量,不受温压影响;压力补偿型号抗波动能力。
高速响应:压电阀 + 高速传感器,≤1 秒稳定,适配快速制程切换。
超洁净低泄漏:全金属密封、电解抛光内壁,泄漏率极低,满足半导体 / 高纯气体需求。
多气体 / 多量程:单台可切换多种气体与量程,降低设备成本。
丰富通信:支持主流工业总线,易集成自动化系统。
**可靠:断电自动关阀,防泄漏;长寿命设计,维护成本低。
半导体:刻蚀、沉积、扩散、离子注入等制程气体控制。
光伏 / LED:MOCVD、PECVD、溅射设备的工艺气体配比。
化工 / 新能源:反应釜气体进料、燃料电池测试、特种气体输送。
工业 / 科研:真空镀膜、热处理、气体分析、实验室精密配气。
流量范围:按实际*大流量选,优先常用流量在 20%–80% F.S. 区间。
气体类型:确认介质(腐蚀性 / 高纯 / 易燃),匹配材质与标定。
精度需求:半导体选 Z700S/D700,一般工业选 N100,预算有限选 E40V/E50V。
通信接口:匹配现有控制系统(EtherCAT / 模拟量等)。
压力条件:压力波动大时优先压力补偿型(Z700S/D700WR)