日本Osaka Vacuum大阪真空 基础TG 系列日本Osaka Vacuum大阪真空 基础TG 系列
全称：Oil‑lubricated Ball Bearing Turbo Molecular Pump（油润滑滚珠轴承涡轮分子泵）。
定位：经济型高真空主力，适配一般工业、科研、腐蚀性气体场景，成本低于磁悬浮 TG‑M/TGkine。
主流型号：
小抽速：TG203 / TG303 / TG403（200–400 L/s）
中抽速：TG600 / TG800 / TG1300 / TG1813（600–1800 L/s）
大抽速：TG2810 / TG3300 / TG5500（2800–5500 L/s）。
衍生型号：TG‑C（耐化学腐蚀型），适配刻蚀、沉积等含氟 / 氯腐蚀性气体制程。
油润滑滚珠轴承：结构简单、成本低、抗冲击强；设计寿命约3–5 万小时，定期换油维护。
宽抽速 + 高压缩比：抽速 200–5500 L/s（N₂），极限真空 **<1×10⁻⁶ Pa**，N₂压缩比1×10⁸，适配轻气体（H₂/He）排气。
任意安装姿态：可垂直、水平、倒置，适配复杂腔体与移动设备。
强耐受性：耐大气冲击，意外破真空不易损坏；抗振动，适合工业生产线。
智能控制 + 工业合规：标配RS232C，控制器 TC 系列；符合CE/NRTL/SEMI‑S2。
半导体：非洁净制程、电子枪排气、离子源、晶圆处理（非 UHV）。
工业真空：光学镀膜、真空热处理、冷冻干燥、检漏设备。
科研：普通分析仪器、电子显微镜（非超高真空）、真空腔体排气。
腐蚀气体：刻蚀、沉积、CVD/PVD 制程（选 TG‑C 耐腐型）。