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大阪真空Osaka Vacuum 优势品牌
产品型号:TG2400M
产品品牌:Osaka Vacuum大阪真空
产品介绍:

大阪真空Osaka Vacuum 优势品牌诚信为本、专业高效、客户共赢、赋能产业成为连接全球半导体资源与国内终端需求的核心桥梁

详细介绍

大阪真空Osaka Vacuum 优势品牌
大阪真空Osaka Vacuum 优势品牌

大阪真空 OSAKA TG2400M 磁悬浮涡轮分子泵

TG2400M 是日本大阪真空(OSAKA VACUUM)TG‑MI 系列旗舰型磁悬浮涡轮分子泵,主打超高真空、大抽速、无油洁净、磁悬浮无磨损,面向半导体、镀膜、分析设备与科研等高真空场景。

一、核心特点

  • 超大抽速 + 超高真空:氮气抽速 2400 L/s(144 m³/h),极限压力 <1×10⁻⁶ Pa,满足高真空 / 超高真空需求。

  • 磁悬浮无油轴承:5 轴主动磁悬浮,无接触、无磨损、零振动、零油污染,寿命超 10 万小时,免维护。

  • 高压缩比:氮气*大压缩比 1×10⁸,氢气 1.4×10³,适配轻气与复杂气体工况。

  • 紧凑轻量化:仅 45 kg(ISO‑B 版),支持任意角度安装,节省空间易集成。

  • 快速启停 + 节能:启动 / 停止各 4–5 min;高速 33,600 rpm,低功耗,适配 24/7 连续运行。

  • 水冷 / 风冷可选:标准水冷(WB)、风冷(AB)可选,适配不同散热需求。

  • 智能控制 + **认证:标配控制器 TC010MB,RS232C 远程监控;符合 SEMI‑S2、CE、NRTL,半导体产线合规。

二、技术参数(概要)


项目参数
抽气速度(N₂)2400 L/s(带保护网 2300 L/s)
抽气速度(H₂)1100 L/s
极限压力<1×10⁻⁶ Pa(7.5×10⁻⁹ Torr)
*大压缩比(N₂)1×10⁸
*大气体流量(N₂)3000 sccm
转速33,600 rpm
启动 / 停止时间4–5 min / 4–5 min
进气法兰VG250 / ISO‑B250
冷却方式水冷(WB)/ 风冷(AB)
重量45 kg(ISO‑B);54 kg(CF / 防腐 C 版)
轴承5 轴主动磁悬浮(无油)
控制器TC010MB(RS232C)

三、典型应用

  • 半导体:CVD、PVD、刻蚀、离子注入、晶圆检测、超高真空腔体。

  • 光学 / 镀膜:真空镀膜、溅射、蒸镀、光学元件真空处理、FPD 制造。

  • 分析 / 科研:质谱、电子显微镜、同步辐射、核聚变研究、高能物理实验。

  • 电子 / 精密制造:电子枪排气、电离源、表面改性、热处理、灯具 / 光学元件生产。