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HITACHI日立实验室
产品型号：荧光分布成像系统 EEM® View
产品品牌：HITACHI日立分析仪器
产品介绍：

HITACHI日立实验室荧光分布成像系统 EEM® View荧光分布成像系统采用全新设计，可以测定并观察样品的光谱数据。利用AI光谱图像处理算法*1，不但可以分别显示样品的荧光图像和反射图像，还可以获得不同区域的光谱图像*1(荧光光谱、反射光谱)
详细介绍
HITACHI日立实验室荧光分布成像系统 EEM® Vieww荧光分布成像系统采用全新设计，可以测定并观察样品的光谱数据。利用AI光谱图像处理算法*1，不但可以分别显示样品的荧光图像和反射图像，还可以获得不同区域的光谱图像*1(荧光光谱、反射光谱)

什么是EEM View

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新技术可同时获得荧光 · 反射图像和光谱

  • 测定样品的光谱数据（反射光谱、荧光光谱）
  • 在不同光源条件（白光和单色光）下拍摄样品
    （区域:Φ20 mm、波长范围:380~700 nm）
  • 采用AI光谱图像处理算法＊1，能够分别显示样品荧光图像和反射图像
  • 根据图像可获得不同区域的光谱信息＊1（荧光光谱、反射光谱）

*1计算系统是国立信息学研究所的IMARI SATO教授和郑银强副教授共同研究的成果

EEM View Analysis 界面（样品：LED电路板）

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荧光分布成像系统概要

均匀的光源系统

同时获取样品的荧光 · 反射图像和光谱！

  • 积分球漫反射使光源均匀化
  • 利用积分球收集的光均匀照射样品
  • 采用荧光检测器和CMOS相机双检测模式

新型荧光分布成像系统可安装到F-7100荧光分光光度计的样品仓内。入射光经过积分球的漫反射后均匀照射到样品，利用F-7100标配的荧光检测器可以获得样品荧光光谱，结合积分球下方的CMOS相机可获得样品图像，并利用独特的AI光谱图像处理算法，可以同时得到反射和荧光图像。

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样品安装简单，适用于各种样品测试！

样品只需摆放到积分球上，安装十分简单！

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  • 板状样品：通过石英窗安装样品。
  • 粉末样品：将粉末填充至样品平整夹具中，置于粉末样品池支架，或使用选配件固体样品支架中的粉末样品池安装样品。
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  • 校正时，需放置好荧光标准样品。
  • 请使用选配的标准白板(100 %)和空白样品(0 %)进行校正。此校正工具可被应用于荧光强度、反射率校正， 以及图像不同区域的亮度分布校正。

应用数据

【应用实例】微结构材料的荧光特性和结构确认

为了提高可视性，我们测量了具有精细结构的荧光反射片。

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同时获得光谱数据和样品图像

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对样品照射360 nm～700 nm范围内的单色光以及白光。此时，可获得不同光源条件下的图像，同时通过荧光检测器可获得荧光光谱。测定完成后，可以查看样品的三维荧光光谱（激发波长、发射波长、荧光强度）。在专用分析软件中，可对图像进行放大，从而显示不同区域的荧光 · 反射光谱。因此能够确认光学性能分布不均匀的样品的反射和荧光光谱。

计算、显示不同区域的光谱（荧光 · 反射）

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显示分离图像（荧光 · 反射）

对拍摄到的图像进行反射光成分图像与荧光成分图像分离

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