PILLAR皮拉CMP工艺用研磨液用泵PC系列
PC 系列是 PILLAR 皮拉专为半导体 CMP 化学机械抛光工艺开发的浆料专用气动波纹管泵（Spela300 系列 CMP 专属款），用于二氧化硅、氧化铝、铈基、铜系等沉降型 CMP 研磨浆料输送与旁路循环，和前面 PE 风囊泵属于同家族，但针对含固体颗粒的研磨浆料做专项优化；配套PA-C 专用脉压蓄能器、SUPER300 PFA 接头、PILAFLON 管路组成 CMP 供浆系统。 PILLAR皮拉CMP工艺用研磨液用泵PC系列工作原理： 气动波纹管式结构，无机械轴封。依靠压缩空气驱动 PFA 波纹管往复伸缩，完成吸液与排液。波纹管垂直布置，泵腔流道优化，停机可排空，避免浆料沉积结块。泵动作重复精度可达 ±1%，可稳定定量输送研磨浆料。 > 与 PE 风囊泵区别：PE 风囊泵主打纯药液；PC 波纹管泵**专门应对带固体颗粒、易沉降的 CMP 研磨浆料，流道防滞留设计是核心差异。 PILLAR皮拉CMP工艺用研磨液用泵PC系列核心产品特点： 1. 全氟接液，低离子低颗粒 接液部件全部 PFA+PTFE，无金属接触浆料，杜绝金属离子污染晶圆；无旋转机械密封，消除密封件磨损产生颗粒的风险，满足 CMP 高洁净要求。 2. 防滞留流道，适配易沉降浆料 特殊平滑无死区流道，减少浆料在泵腔滞留、二次团聚，可处理沉降速度快的金属基研磨液；停机可排空泵内浆料，防止颗粒沉淀固化。 3. 低脉动供浆（需配套 PA-C 蓄能器） 搭配同系列专用 PA-C 脉压调节器（PA-C10MB/PA-C20MB/PA-C40MB），抑制泵往复产生的压力脉动，稳定抛光头供浆流量，保证抛光速率、晶圆良率稳定，脉动可控制在 ±12.5% 以内。 4. 可选行程监测传感器版本 型号后缀带 T（PC-xxMBT），内置接近传感器，实时监测波纹管动作，将泵运行状态反馈给设备 PLC，实现产线报警、运行监控。 5. 原厂 SUPER300 一体化接口 进出口直接集成 SUPER300 入珠式 PFA 接头，免热焊，直接对接皮拉 PFA 管路、阀门，整套系统统一，减少泄漏点。 PILLAR皮拉CMP工艺用研磨液用泵PC系列典型应用场景： 半导体晶圆 CMP 化学机械抛光工艺，用于研磨浆料的供给输送、槽体旁路循环；维持浆料均匀悬浮，防止固体颗粒沉降，稳定抛光台供浆流量，是 CMP 抛光机台供浆回路核心泵。