测量项目：[膜厚、折射率n、消光系数k]. 测量原理：[分光干涉法]. 测量对象：[光刻胶、SiO2、Si3N4等]. 测量范围：[1nm~92μm]....
● 非接触、非破坏式，量测头可自由集成在客户系统内
● 初学者也能轻松解析建模的初学者解析模式
● 高精度、高再现性量测紫外到近红外波段内的**反射率，可分析多层薄膜厚度、光学常数（n：折射率、k：消光系数）
● 单点对焦加量测在1秒内完成
● 显微分光下广范围的光学系统（紫外 ~ 近红外）
● 独立测试头对应各种inline定制化需求
● *小对应spot约3μm
● ****可针对超薄膜解析nk
量测项目
● **反射率分析
● 多层膜解析（50层）
● 光学常数（n：折射率、k：消光系数）
膜或者玻璃等透明基板样品，受基板内部反射的影响，无法正确测量。OPTM系列使用物镜，可以物理去除内部反射，即使是透明基板也可以实现高精度测量。此外，对具有光学异向性的膜或SiC等样品，也可完全不受其影响，单独测量上面的膜。
应用范围
● 半导体、复合半导体：硅半导体、碳化硅半导体、砷化镓半导体、光刻胶、介电常数材料
● FPD：LCD、TFT、OLED（有机EL）
● 资料储存：DVD、磁头薄膜、磁性材料
● 光学材料：滤光片、抗反射膜
● 平面显示器：液晶显示器、薄膜晶体管、OLED
● 薄膜：AR膜、HC膜、PET膜等
● 其它：建筑用材料、胶水、DLC等