产品信息

特点

● 可在紫外和可见（250至800nm）波长区域中测量椭圆参数

● 可分析纳米级多层薄膜的厚度

● 可以通过超过400ch的多通道光谱快速测量Ellipso光谱

● 通过可变反射角测量，可详细分析薄膜

● 通过创建光学常数数据库和追加菜单注册功能，增强操作便利性

● 通过层膜贴合分析的光学常数测量可控制膜厚度/膜质量

测量项目

测量椭圆参数（TANψ，COSΔ）

光学常数（n：折射率，k：消光系数）分析

薄膜厚度分析

用途

半导体晶圆
栅氧化膜，氮化膜
SiO2，SixOy，SiN，SiON，SiNx，Al2O3，SiNxOy，poly-Si，ZnSe，BPSG，TiN
光学常数（波长色散）

复合半导体
AlxGa（1-x）多层膜、非晶硅

FPD
取向膜
等离子显示器用ITO、MgO等

各种新材料
DLC（类金刚石碳）、超导薄膜、磁头薄膜

光学薄膜
TiO2，SiO2多层膜、防反射膜、反射膜

光刻领域
g线（436nm）、h线（405nm）、i线（365nm）和KrF（248nm）等波长的n、k评估

原理

包括s波和p波的线性偏振光入射到样品上，对于反射光的椭圆偏振光进行测量。s波和p波的位相和振幅独立变化，可以得出比线性偏振光中两种偏光的变换参数，即p波和S波的反射率的比tanψ相位差Δ。