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日本有限会社NAS技研半导体采样设备



特征

NAS Giken 的特点


出色的体蚀刻能力

我们的其中一项技术是称为“批量蚀刻”的功能,它可以刮擦整个表面以回收晶圆内部的污染物。
进行批量蚀刻时,重要的是要确定表面是否可以均匀地挖掘。

我们的块状蚀刻性能非常好,我们保证平整度在 10% 以内。


世界**的污染回收能力

我们已获得“斜面回收”的国际**,这是一种在硅片侧面进行的污染物回收操作。

我们还获得了亲水硅片回收的国内**,并拥有世界**的功能和技术能力。


完善的售后服务
我们的产品可以在海外和日本国内进行维护。
作为一般规则,当我们收到来自日本和海外的维修请求时,我们将在 48 小时内与您联系。
在确认故障或设备会议等细节的情况下,我们会酌情与业务合作伙伴举行在线会议。
产品没有维护期限,因此您可以安心长期使用我们的设备。


产品分类
简易型微量金属污染物采样设备(SC系列)

微量金属污染物全自动采样设备(NAC系列)
基体蚀刻设备
气相分解用 VPDBOX

无尘通风柜(NCD系列)


追加了SC-2000 / SC-3000无法实现的亲水晶圆污染物采样功能。

可以对硅材质以外的晶圆、由于蚀刻等导致表面粗糙的晶圆进行采样操作。当然,也可以进行传统的憎水采样操作。


SC-3100

●通过与计算机联机,可选择丰富多样的采样模式,对晶圆正面以及端面的微量金属污染物进行采样操作。
●因为不太需要外部资源,也不太占地方,易于导入。
●采样操作由设备自动完成,无需熟练工就可轻松完成采样操作。
●采样液的供给和支架具的移动由设备自动操作,与SC-2000相比,可以减少由操作员引起的污染。

SC-8100
●具有对亲水晶圆污染物进行采样的功能、对于硅材质以外的晶圆、由于基体蚀刻等导致表面粗糙的晶圆也可进行采样操作。
●对于晶圆表面状态、采样液种类的要求不苛刻,另外,还可以对非重金属离子进行采样。
●当然,也可以进行传统的憎水采样操作。

SC-9100
●具有对亲水晶圆污染物进行采样的功能、对于硅材质以外的晶圆、由于基体蚀刻等导致表面粗糙的晶圆也可进行采样操作。
●对于晶圆表面状态,以及采样液种类的采样限制,本设备有所突破,另外,也可以对非重金属离子进行采样。
●当然,也可以进行常规的憎水采样操作。
●采样液的供给和支架具的移动由设备自动操作,与SC-8100相比,可以减少由操作员引起的污染。